啥，你不知道磁控溅射镀膜就是真空镀膜？

啥，你不知道磁控溅射镀膜就是真空镀膜？那让我告诉你，磁控溅射镀膜确实是属于真空镀膜！

磁控溅射镀膜－溅射原理：是加工时达到真空条件，一般控制在1.013*10-1-1.3*10-6Pa，加工室内通入Ar（氩气），并启动DC键，Ar发作电离产生氩离子，在电场效果下，电子会加快飞向阳极，在电场效果下，Ar+会加快飞向阴极的靶材，靶材粒子及二次电子被击出，前者到达基片表面进行薄膜生长，后者被加快至阴极途中促成更多的电离。笔直方向分布的磁力线将电子约束在靶材表面附近，延长其在等离子体中的运动轨道，加速它与气体分子磕碰和电离过程的几率的效果。

相对蒸发镀，磁控溅射镀膜有如下的特点：

1、膜厚可控性和重复性好；

2、薄膜与基片的附着力强；

3、能够制备绝大多数材料的薄膜，包含合金，化合物等；

4、膜层纯度高，细密；

5、堆积速率低，设备也更复杂；

如您还想了解真空镀膜还包含哪些镀膜方式，欢迎回复留言！